スプリットフィルムプローブを用いたタンデム配置正方形角柱周辺の流れの測定

抄録

本研究では，流れ方向にタンデム配置した2本の正方形角柱周辺の流れを，スプリットフィルムプローブで面的に測定し，その時間平均場および位相平均場について検討した． 　時間平均流れ場に着目すると，時間平均流線は上流側角柱上面近傍よりも下流側角柱上面近傍の方が間隔は粗であり，時間平均風速の主流方向成分は，下流側角柱上面近傍の方が全体的に風速は低い．境界層厚さは，下流側角柱上方が上流側角柱上方に比べ，2倍以上厚いことがわかった． 　位相平均流れ場に着目すると，下流側角柱の背後に直径が角柱辺長の1.5倍から2倍程度の渦が形成されることがわかった．