PLD法による大面積WO₃薄膜の作製

抄録

エレクトロクロミック(EC)素子は,電気化学反応によって色が可逆的に変化する素子として知られている。一般的なEC素子の構造は,ガラス基板上の透明電極膜,電解質膜,EC材料膜,透明電極膜から構成されている。EC素子は視野角依存性がない,低消費電力,メモリー性がある,目に優しいなどといった特徴を有している。今回,ターゲットとしてEC材料であるWO3を用いた。膜厚の均一性と大面積化を考慮し,ターゲット-基板間距離Lを45 mm~110 mmの間で変えて,WO3薄膜を作製し,成膜条件の最適化とEC特性の確認を行い,比較的大きな面積のEC素子の可能性について検討を行った。