抄録
電子機器の小型化・高性能化に伴い、その中での使用を期待される厚膜磁石の研究も盛んに進められている。我々はこれまでに、PLD法を用いてターゲットを回転させながら成膜する簡便な手法により、残留磁化値が1 Tを超える数10 μm厚積層型交換スプリング磁石膜を作製してきた。本研究では、ソフト相として用いていたFe3Bをα-Feに変更してNd-Fe-B/α-Fe複合ターゲットを用いて作製した試料の磁気特性を検討した。その結果 (BH)max値90 kJ/m3を得ることができた。また膜の平滑性を改善するために開発された補助のレーザーを備えたPLDシステムの使用によって、堆積速度を損なうことなくドロップレット数を減少させ、磁気特性が改善できることが明らかとなった。