スパッタリング法を用いた高周波帯域用軟磁性薄膜の作製を目的として，「SiO2材料とFe系軟磁性材料」を「ナノグラニュラー化」もしくは「積層化」した高抵抗材料等の開発手法が報告されている。本研究では，PLD（Pulsed Laser Deposition）法を用い，ガラスとFe-Coを組み合わせた複合ターゲットを利用して数10 μm厚の「ガラス粒子を含むFe-Co系磁性膜」の作製を試みると共に，その磁気特性，結晶構造，透磁率の周波数特性ならびに微細構造を検討し，既報の高周波用磁性膜と比較検討した内容を報告する。
