Nb添加を施したNd-Fe-B系磁石膜の真空アーク蒸着による作製

抄録

デバイス応用に向けた数10μm厚のNd-Fe-B系磁石膜がスパッタリング法等のいくつかの手法で報告されている。本研究室では、真空アーク蒸着法を用い、10 μm厚以上のNd-Fe-B系磁石膜を組成分布：±0.4 at. %，膜厚分布：±16 %の範囲で成膜面積を20 mm角まで増加できることを報告した。一方、試料の端部の減磁曲線が中心部に比べ二段化に伴う磁気特性の劣化が生じる事も確認された。本研究では、Nd-Fe-B系磁石膜にNb添加を施す事により、試料端部の磁気特性の改善を検討したので報告する。