日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
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分子層エピタキシ法によるGaAs成長のBeドーピング特性(半導体結晶成長I)
大野 武雄小山 裕須藤 建西澤 潤一
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2003 年 30 巻 3 号 p. 49-

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抄録
Be-doped p^+-GaAs epitaxial layers were grown by molecular layer epitaxy. By changing the gas injection sequences and supply time, the surface stoichiometry before the introduction of impurity precursor is controlled. Be doping characteristics have shown strong dependences on surface stoichiometry.
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© 2003 日本結晶成長学会
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