日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
Print ISSN : 0385-6275
ISSN-L : 0385-6275
25aB10 GaAsのMBE成長におけるリエントラントなRHEED振動の機構(半導体エピ(1),第34回結晶成長国内会議)
吉野 淳二長島 礼人川上 拓郎
著者情報
ジャーナル フリー

2004 年 31 巻 3 号 p. 131-

詳細
抄録
Reentrant RHEED intensity oscillation (RO) observed during low temperature MBE growth of GaAs has been explored by RHEED rocking curves observation during growth. Time evolution of surface coverage obtained based on dynamical diffraction calculation reveals that the origin of dumped-RO around 400℃ is due to rapid roughening, which takes place within first monolayer growth on C(4x4) surfaces.
著者関連情報
© 2004 日本結晶成長学会
前の記事 次の記事
feedback
Top