日本結晶成長学会誌
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26aB04 GaN用基板としてのβ-Ga_2O_3の単結晶育成と評価(窒化物(1),第34回結晶成長国内会議)
E.G. Villora島村 清史青木 和夫一ノ瀬 昇
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2004 年 31 巻 3 号 p. 207-

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抄録
Transparent conductive β-Ga_2O_3 single crystals with 30mm in diameter have been grown by the FZ technique. GaN-system epitaxial films have been deposited by the MOCVD technique on cut and polished β-Ga_2O_3 single crystal wafers. Preliminary GaN-system/β-Ga_2O_3 LEDs with vertical current flow emitted blue light.
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© 2004 日本結晶成長学会
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