日本結晶成長学会誌
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01aB01 RF-MBE法に用いる窒素ラジカル源の低輝度と高輝度励起モード切換(半導体エピ(1),第36回結晶成長国内会議)
下村 浩司折出 和章山邊 信彦乾 紘輔武田 祥宏芝滝 健太郎有屋 田修和田 元大鉢 忠
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2006 年 33 巻 4 号 p. 197-

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抄録
Low and high bright discharge modes of a nitrogen radical source were investigated for MEE (migration enhanced epitaxy) method of RF-MBE. The low bright (LB) mode and the high bright (HB) mode are the E mode discharge of capacitive coupling and the high- density H mode discharge of inductive coupling, respectively. The mode transition between LB and HB is applicable to MEE method of RF-MBE.
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© 2006 日本結晶成長学会
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