20pXA-3 多価イオン-水素終端Si表面相互作用における表面化学反応(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))

日本物理学会講演概要集

Online ISSN : 2189-0803
ISSN-L : 2189-0803

セッションID: 20pXA-3

DOI https://doi.org/10.11316/jpsgaiyo.60.2.4.0_744_2

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20pXA-3 多価イオン-水素終端Si表面相互作用における表面化学反応(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))

永田一夫, 高橋学士, 戸名正英, 吉安信雄, 中村信行, 櫻井誠, 山田千樫, 大谷俊介

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