日本物理学会講演概要集
Online ISSN : 2189-0803
ISSN-L : 2189-0803
セッションID: 27aYH-7
会議情報
27aYH-7 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価-II(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
趙 星彪, 藤林 裕明, 田中 信夫
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