3次元ナノ多孔体HMM-2に吸着した⁴He薄膜上³HeのNMRによる観測II

抄録

4Heでコートした多孔体HMM-2の３次元接続された細孔に3Heを吸着し、NMRを用いて磁化率、スピン緩和時間を測定している。現在、前回の報告時よりも3He吸着量を増やして測定を行っており、この吸着量で実現が期待されるフェルミ縮退状態に依る結果を得られたので報告する。また、前回報告した何らかの束縛状態における測定結果とは異なる振る舞いが見られたため、それぞれの状態における特徴を明確にする。