主催: 一般社団法人日本物理学会
会議名: 2017年度日本物理学会第72回年次大会
開催日: 2017/03/17 - 2017/03/20
超高速電子線回折法への応用を目標に、高強度レーザーを固体薄膜ターゲットに照射した際に発生する数百keVの電子パルスの高強度化、および線源の微小化に関する研究を行っている。高強度レーザーを照射する数百ピコ秒前に、高強度レーザー照射面とは反対側の面に低強度レーザーを照射し、スケール長が数十umのプラズマを付与すると、ターゲット薄膜鉛直方向に放射される電子の強度を20倍程度高くすることに成功した。