抄録
X線光電子分光法（X-ray Photoelectron Spectroscopy）は表面分析技術として広く利用されている．分析深さ（光電子脱出深さ）は数nmであり，試料表面に存在する元素の同定，見掛け元素組成，特定元素のイメージングなどが可能である．また，種々の解析手法を用いることで，表面層構造を推定することも可能である．これらの利点から高分子，単分子膜およびLB膜などの有機物の評価にも使われているが，X線照射により有機物とくに官能基が分解し，精確な情報を得ることが困難になることがある．ここでは，高分子材料や固体表面上単分子膜などの分解特性の評価法，参照物質を用いた試料損傷因子の求め方について解説する．
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