水素のSi基板上SiGeエピ膜透過に対する歪の効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第57回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 20p-TW-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2010.1.0_3592

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 57

開催地: 東海大学

開催日: 2010/03/17 - 2010/03/20

水素のSi基板上SiGeエピ膜透過に対する歪の効果

*山下善文, 小林充, 山田和久, 石山武, 上浦洋一

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キーワード: 20p-TW-1, 結晶工学, 結晶評価，ナノ不純物・結晶欠陥, SiGe, 拡散, 水素

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