ベンゾフェノン基含有光反応性単分子膜による光硬化樹脂−Siウエハ界面の密着性の向上

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第71回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 15p-K-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2010.2.0_1422

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 71

開催地: 長崎大学

開催日: 2010/09/14 - 2010/09/17

ベンゾフェノン基含有光反応性単分子膜による光硬化樹脂−Siウエハ界面の密着性の向上

*小林敬, 栗原正彰, 法元盛久, 松井真二, 中川勝

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キーワード: 15p-K-6, ビーム応用, ナノインプリント, 光ナノインプリント, 密着層

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