応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
セッションID: 16a-ZA-7
会議情報

主催: The Japan Society of Applied Physics

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 71

開催地: 長崎大学

開催日: 2010/09/14 - 2010/09/17

Radical Transport Simulation under Roof on Substrate in Processing Plasma
*アルカディウス マリノフスキ, 堀 勝, 関根 誠, 石川 健治, 近藤 博基, 山本 洋, 竹内 拓也, 鈴木 俊哉, 宮脇 雄大, リディア ルカシャック, アンジェイ ヤクボフスキ, ダニエル トマシェフスキ
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キーワード: 16a-ZA-7, etching, radical, simulation
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© 2010 The Japan Society of Applied Physics
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