大気圧VHFプラズマによるシリコン酸化膜の常温・高速形成とその構造評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第58回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 26p-BG-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_1844

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 58

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27

大気圧VHFプラズマによるシリコン酸化膜の常温・高速形成とその構造評価

*横山京司, 水野裕介, 山田高寛, 大参宏昌, 垣内弘章, 安武潔

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キーワード: 26p-BG-2, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜･表面処理, HMDSO, シリコン酸化膜

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