Si基板上の不純物ドープSiGe膜中の貫通転位速度

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第58回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 26a-P7-9

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_3816

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 58

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27

Si基板上の不純物ドープSiGe膜中の貫通転位速度

*船木透, 松永拓也, 種本寛, 山下善文, 石山武, 上浦洋一

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キーワード: 26a-P7-9, 結晶工学, 結晶評価，ナノ不純物・結晶欠陥, SiGeエピ膜, 転位運動, 不純物

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