応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第58回春季応用物理学関係連合講演会
セッションID: 26a-P7-8
会議情報

主催: 社団法人 応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 58

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27

110禁制反射XRDを用いた原子レベルで平坦なSiO2/Si界面における歪の評価
*永田 晃基, 服部 真季, 小瀬村 大亮, 武井 宗久, 小椋 厚志, 小金澤 智之, 広沢 一郎, 諏訪 智之, 寺本 章伸, 服部 健雄, 大見 忠弘
著者情報
キーワード: 26a-P7-8, 結晶工学, 結晶評価，ナノ不純物・結晶欠陥, CTR散乱, X線回折, シリコン酸化膜
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