水素ラジカル注入型プラズマ源を用いた微結晶シリコン成膜における欠陥密度の抑制効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 29a-ZN-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_1227

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

水素ラジカル注入型プラズマ源を用いた微結晶シリコン成膜における欠陥密度の抑制効果

*陸雅, 福島敦史, 阿部祐介, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 関根誠, 堀勝

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キーワード: 29a-ZN-5, プラズマエレクトロニクス, プラズマ生成･制御, ラジカル注入型プラズマ化学気相堆積法, 微結晶シリコン

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