微細電極表面でのシリコンの酸化溶解反応を利用した微細加工法

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 30a-W-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_2267

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

微細電極表面でのシリコンの酸化溶解反応を利用した微細加工法

*杉田智彦, 池田茂, 松村道雄

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キーワード: 30a-W-2, 半導体A（シリコン）, 半導体表面, シリコン, 電気化学, 微細加工

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