熱処理雰囲気制御によるTiO<sub>2</sub>薄膜FETの特性向上

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-C13-18

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_1352

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

熱処理雰囲気制御によるTiO₂薄膜FETの特性向上

*大塚照久, 島久, 秋永広幸

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キーワード: 13p-C13-18, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, TiO2, 酸化物半導体TFT, 雰囲気制御アニール

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