Study on reaction mechanism of plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO2 using in-situ ATR-FTIR

セッションID: 13p-E1-18

会議情報

主催: The Japan Society of Applied Physics

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

Study on reaction mechanism of plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO₂ using in-situ ATR-FTIR

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キーワード: 13p-E1-18, ATR-FTIR, PEALD, silicon oxide

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