応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第60回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 30p-G6-1
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

新しいRu-CVD/ALD原料を利用した次世代DRAMキャパシタ用電極形成プロセスの開発
*Taewoong Kim, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki
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キーワード: 30p-G6-1, 半導体A（シリコン）, 配線技術, Atomic Layer Deposition, reflectivity measurement, Ruthenium
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