Krスパッタを用いたPtSiの低抵抗化に関する検討

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第60回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 30p-G6-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_2674

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

Krスパッタを用いたPtSiの低抵抗化に関する検討

*吉村泰彦, 呉小鵬, 吉見聡浩, 有馬潤, 大見俊一郎

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キーワード: 30p-G6-6, 半導体A（シリコン）, 配線技術, Kr, シリサイド

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