「第5回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演」リコン電極上に成膜したフッ化カルシウム薄膜のバイポーラ抵抗変化特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第61回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 19a-E4-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.1.0_3866

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 61

開催地: 青山学院大学

開催日: 2014/03/17 - 2014/03/20

「第5回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演」リコン電極上に成膜したフッ化カルシウム薄膜のバイポーラ抵抗変化特性

*西義史

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キーワード: 19a-E4-4, シリコンテクノロジー分科会論文賞および奨励賞記念講演, 抵抗変化, フッ化カルシウム, メモリスタ

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