非晶質Ge/SiO<sub>2</sub>のAu誘起横方向成長に及ぼす電子線照射効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-A19-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_22

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

非晶質Ge/SiO₂のAu誘起横方向成長に及ぼす電子線照射効果

*茂藤健太, 崎山晋, 岡本隼人, 酒井崇嗣, 中嶋一敬, 原英之, 西村浩人, 高倉健一郎, 角田功

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キーワード: 17p-A19-10, シンポジウム, 絶縁膜上におけるⅣ族系半導体結晶薄膜の低温成長－新しい結晶成長技術への期待－, 金属誘起成長, 低温形成, ゲルマニウム

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