非晶質Ge/SiO<sub>2</sub>のAu誘起横方向成長に及ぼす応力印加効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-A19-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_23

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

非晶質Ge/SiO₂のAu誘起横方向成長に及ぼす応力印加効果

*酒井崇嗣, 中嶋一敬, 茂藤健太, 本山慎一, 楠田豊, 古田真浩, 中庸行, 沼田朋子, 高倉健一郎, 角田功

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キーワード: 17p-A19-11, シンポジウム, 絶縁膜上におけるⅣ族系半導体結晶薄膜の低温成長－新しい結晶成長技術への期待－, 金属誘起固相成長, 応力

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