多結晶Si上に成長したBaSi<sub>2</sub>薄膜表面のKFM法によるポテンシャル分布評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 14a-A25-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_2778

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

多結晶Si上に成長したBaSi₂薄膜表面のKFM法によるポテンシャル分布評価

*李云鵬, 馬場正和, 沼田涼平, 都甲薫, 宇佐美徳隆, 関口隆史, 末益崇

著者情報

キーワード: 14a-A25-4, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, 半導体, シリサイド, KFM

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2015 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top