電気化学堆積法による Cu<sub>2</sub>O/InP ヘテロ構造の形成と特性評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-2H-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_1258

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

電気化学堆積法による Cu₂O/InP ヘテロ構造の形成と特性評価

*近江沙也夏, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友

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キーワード: 13p-2H-1, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, 太陽電池、光触媒, 電気化学堆積法, 酸化(Ⅱ)銅, ヘテロ構造

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