スパッタリング法によるCa-Mg-Si基膜の作製と特性評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 16a-2R-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_2650

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

スパッタリング法によるCa-Mg-Si基膜の作製と特性評価

*上原睦雄, 黒川満央, 秋山賢輔, 松島正明, 内田寛, 木村好里, 舟窪浩

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キーワード: 16a-2R-11, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, 熱電材料, シリサイド, スパッタリング法

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