酸素プラズマを用いた ALDアルミナ膜の基板温度依存性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13a-4C-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_2655

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

酸素プラズマを用いた ALDアルミナ膜の基板温度依存性

*和泉慶彦, 福井僚, 中村嘉基, 若林整, 筒井一生, 岩井洋, 角嶋邦之

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キーワード: 13a-4C-5, 半導体, 絶縁膜技術, ゲート絶縁膜, ダイポール, アルミナ

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