窒素雰囲気中高温長時間熱処理によりシリコン中に発生する析出物（Ⅳ）

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-1E-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_3274

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

窒素雰囲気中高温長時間熱処理によりシリコン中に発生する析出物（Ⅳ）

*村松徹, 中澤治雄, 荻野正明, 寺西秀明, 高橋良和, 羽深等

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キーワード: 13p-1E-10, 結晶工学, 結晶評価，不純物・結晶欠陥, 光学評価, 窒素析出物, FZウェーハ, 熱処理

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