UHVスパッタ法により成長したZnO層の大気アニール処理(Ⅲ)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第76回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14a-1B-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_3555

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 76

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2015/09/13 - 2015/09/16

UHVスパッタ法により成長したZnO層の大気アニール処理(Ⅲ)

*羽鳥翼, 佐久間大樹, 松久健司, 渡邉和樹, 水野愛, 篠田宏之, 六倉信喜

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キーワード: 14a-1B-2, 合同セッションＫ, 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, 薄膜成長, 半導体

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