応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19p-P6-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

SiF4凝縮層の低速電子線誘起反応と水素原子のトンネル反応を利用したa-SiNxの極低温合成
*坂巻 直, 佐藤 哲也, 中川 清和
著者情報
キーワード: 19p-P6-8, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・表面処理, 成膜・表面処理装置および制御技術, アモルファスシリコン, 窒化シリコン, 極低温
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