エピタキシャルGeナノドット含有Si構造を用いたSi系熱電材料の性能向上

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 20p-W323-12

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_1918

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

エピタキシャルGeナノドット含有Si構造を用いたSi系熱電材料の性能向上

*山阪司祐人, 渡辺健太郎, 澤野憲太郎, 竹内正太郎, 酒井朗, 中村芳明

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キーワード: 20p-W323-12, 応用物性, 熱電変換, ナノ構造 / マイクロ構造, 熱電材料, ナノドット, シリコン

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