多相HfO<sub>2</sub>膜における均一強誘電相の発現

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 20p-S221-16

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_2915

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

多相HfO₂膜における均一強誘電相の発現

*柴山茂久, 徐倫, 右田真司, 鳥海明

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キーワード: 20p-S221-16, 半導体, 絶縁膜技術, ゲート絶縁膜, HfO2, 強誘電体, ピエゾ応答力顕微鏡

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