応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19a-S423-1
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

ミニマル・メガファブハイブリッドプロセスによるSOI-CMOS集積回路の作製及び電気特性評価
*柳 永シュン, クンプアン ソマワン, 長尾 昌善, 原 史朗
著者情報
キーワード: 19a-S423-1, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, SOI, ミニマル, SOI-CMOS, リングオシレータ
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