応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19p-P4-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

極薄膜SOIを用いた量子ドットデバイスの作製と評価
*西野 孝夫, 平岡 宗一郎, 井原 敏, 小寺 哲夫, 小田 俊理
著者情報
キーワード: 19p-P4-8, 半導体, デバイス／集積化技術, 量子効果デバイス(SET、量子ドット、トンネル、スピンなど）, 量子ドット, 極薄膜, シリコン
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