4H-SiC上金属多層膜界面の高温安定性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 21p-P10-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_3586

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

4H-SiC上金属多層膜界面の高温安定性

*関伸弥, 村松哲郎, 菅原徹, 長尾至成, 菅沼克昭

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キーワード: 21p-P10-6, 結晶工学, IV族系化合物（SiC）, 電極, SiC, 裏面電極, 高温安定性

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