応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第63回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 20p-S222-2
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

RFマグネトロンスパッタリング法で作製した(ZnO)x(InN)1-x膜の表面モフォロジー制御
*松島 宏一, 井手 智章, 山下 大輔, 徐 鉉雄, 古閑 一憲, 白谷 正治, 板垣 奈穂
著者情報
キーワード: 20p-S222-2, 合同セッションＫ, 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, 薄膜成長, 酸窒化物, スパッタリング, 酸窒化インジウム亜鉛
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