ミストCVD法により形成したバッファ層上のZnO薄膜の結晶性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 20p-S222-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_3969

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

ミストCVD法により形成したバッファ層上のZnO薄膜の結晶性

*田之上博信, 和田祥平, 山下達也, 永岡昭二, 谷田部然治, 中村有水

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キーワード: 20p-S222-3, 合同セッションＫ, 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, 薄膜成長, 酸化亜鉛, ミストCVD

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