NO プローブ分子を用いた光電子分光法 (XPS/UPS) による N-doped a-C 薄膜の表面構造の評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 16p-B3-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_1481

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

NO プローブ分子を用いた光電子分光法 (XPS/UPS) による N-doped a-C 薄膜の表面構造の評価

*村田悠馬, 中山廉平, 小野洋, チュウチャオキョン, 田中勝己

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キーワード: 16p-B3-1, 薄膜・表面, 表面物理・真空, 表面, アモルファスカーボン, NO吸着, 窒素ドープ

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