アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13a-D61-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_1570

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究

*山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘

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キーワード: 13a-D61-3, ビーム応用, 微細パターン・微細構造形成技術, レジスト, 電子線, 分子レジスト, 化学増幅型レジスト

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