Si基板/ITO薄膜表面活性化接合の形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 15p-B10-17

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_2748

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

Si基板/ITO薄膜表面活性化接合の形成

*小川智輝, 梁剣波, 荒木建次, 神岡武文, 重川直輝

著者情報

キーワード: 15p-B10-17, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, 平坦化/貼り合わせ, 表面活性化接合, ITO

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