GaNまたはAlGaN上に形成したSiO<sub>2</sub>膜へのGaの熱拡散

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14a-P6-13

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_2852

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

GaNまたはAlGaN上に形成したSiO₂膜へのGaの熱拡散

*片岡恵太, 兼近将一, 青木裕子, 上田博之, 成田哲生, 木本康司, 上殿明良

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キーワード: 14a-P6-13, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, III-V族半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, SiO2/GaN, SiO2/AlGaN, Ga拡散

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