スパッタエピタキシー法による低温成長歪Si膜の評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 15p-P11-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_3211

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

スパッタエピタキシー法による低温成長歪Si膜の評価

*出蔵恭平, 本橋叡, 大久保克己, 広瀬信光, 笠松章史, 三村高志, 松井敏明, 塚本貴広, 須田良幸

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キーワード: 15p-P11-10, 結晶工学, IV族結晶，IV-IV族混晶, 結晶成長, 半導体

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