スパッタエピタキシーによるサファイア基板上へのIn-N rich (ZnO)<sub>x</sub>(InN)<sub>1-x</sub>膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第78回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 8a-PB4-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.2.0_1734

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 78

開催地: 福岡国際会議場

開催日: 2017/09/05 - 2017/09/08

スパッタエピタキシーによるサファイア基板上へのIn-N rich (ZnO)_x(InN)_1-x膜の作製

*宮原奈乃華, 岩崎和也, 石榴, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

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キーワード: 8a-PB4-6, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・表面処理, CVD・PVD・スパッタリング, 窒化インジウム亜鉛, スパッタリング

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