CCP-CVD法によるSiO:CH微粒子堆積過程のレーザー散乱測定

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第78回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 8a-PB4-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.2.0_1735

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 78

開催地: 福岡国際会議場

開催日: 2017/09/05 - 2017/09/08

CCP-CVD法によるSiO:CH微粒子堆積過程のレーザー散乱測定

*堀籠浩司, 矢崎衛, 相原巧, 井上泰志, 高井治

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キーワード: 8a-PB4-7, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・表面処理, CVD・PVD・スパッタリング, 薄膜, プラズマ, レーザー

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